半导体行业污水处理方法!

原标题：半导体行业污水处理方法!

　　在电子产品应用范围快速增长的当下，半导体对如今的发展极为重要。半导体所用到的行业十分广泛，结合原料制造工艺的差异，所生产污水性质也不相同，但均有着排水量大、污染能力强的特点。按半导体污水处理企业的优势，将半导体污水分为三大类，都是来自于生产过程中产生的含氟废水、有机废水和金属离子污水。

　　含氟废水：污水均来自半导体生产环节的腐蚀段，基于大量运用氢氟酸、氟化铵等试剂，污染物浓度过高，如氟、氨等，污水一般呈强酸性;

　　处理方式：将污水的p H值调整在6-7左右，再添加的过多的Ca Cl2和适量的絮凝剂，接下来会行形成沉淀，部分污泥循环变成载体，在沉淀池中进行重力沉降能够达到泥水分离。第一次反应时能够去除80%的氟，再一次加入絮凝剂，氟化钙及其其他形态沉淀，利用污泥泵输送到污泥沉淀池,用板框式脱水机压成泥饼外运，这时候产生的压滤液进到其他的系统进一步处理。

　　有机废水，其污染物大部分是基本污染物，生产浓度与生产工艺和运转管理效益紧密相关。半导体生产污水中金属离子品种繁多，主要分为铜、镍、锡、铅、银等。金属离子污水就是针对不同金属离子使用不同的方法，污水处理设备厂家多用的方法是活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

　　半导体污水除了这些方法外，还能通过污水做好电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在开展污水处理期间还能消除许多杂质以及特殊的气味。